橢偏成像技術(shù)是為適應(yīng)各種器件和材料小而精的趨勢(shì)，在傳統(tǒng)橢偏技術(shù)的基礎(chǔ)上結(jié)合成像技術(shù)發(fā)展起來的一門測(cè)量技術(shù)棒搜。隨著納米技術(shù)的快速發(fā)展疹蛉，該技術(shù)也呈現(xiàn)快速發(fā)展的趨勢(shì)，在材料科學(xué)力麸、生物學(xué)可款、半導(dǎo)體等很多領(lǐng) 域有著廣泛的應(yīng)用。
橢偏儀（一）-橢偏成像技術(shù)簡(jiǎn)介
橢偏成像技術(shù)是一種在傳統(tǒng)橢偏技術(shù)和光學(xué)成像系統(tǒng)基礎(chǔ)上發(fā)展而來的克蚂，以charge coupLED device (ccd)或 complementary metal-oxide-semiconductor transistor（cmos）為探測(cè)器實(shí)現(xiàn)高橫向分辨率的橢偏測(cè)量技術(shù)闺鲸。
隨著各種技術(shù)的發(fā)展，傳統(tǒng)橢偏測(cè)量技術(shù)已經(jīng)無法滿足測(cè)量要求埃叭。從根本的測(cè)量原理來看摸恍，傳統(tǒng)橢偏測(cè)量技術(shù)測(cè)量時(shí)采用的是光斑照射區(qū)平均測(cè)試方法，分析的數(shù)據(jù)是全部光斑照射區(qū)域內(nèi)樣品待測(cè)參數(shù)的平均值赤屋，這不僅難以準(zhǔn)確地檢測(cè)分析小于光斑照射區(qū)域內(nèi)待測(cè)對(duì)象的微小變化误墓，對(duì)于待測(cè)參數(shù)分布不均勻的樣品也會(huì)得到錯(cuò)誤的結(jié)果，無法 滿足對(duì)樣品性能的表征要求益缎。另外谜慌，傳統(tǒng)橢偏儀橫向分辨率主要取決于光斑直徑和樣品臺(tái)位移精度，其光斑直徑一般為 3-25 mm莺奔，每次測(cè)量時(shí)只能獲得當(dāng)前光斑照射區(qū)域內(nèi)的信息欣范，需要移動(dòng)樣品臺(tái)進(jìn)行多次測(cè)量才能獲得大面積區(qū)域內(nèi)的光學(xué)信息，測(cè)量效率受到嚴(yán)重影響令哟。在這種情況下恼琼，提高橢偏測(cè)量的空間分辨率和測(cè)量效率成了必要研究的方向。
橢偏成像技術(shù)由傳統(tǒng)橢偏測(cè)量系統(tǒng)結(jié)合光學(xué)成像技術(shù)屏富、圖像采集技術(shù)晴竞、計(jì)算機(jī)技術(shù)構(gòu)成，縱向分辨率與傳統(tǒng)橢偏測(cè)量術(shù)相當(dāng)狠半，膜厚測(cè)量精度可達(dá)埃級(jí)噩死，同時(shí)具有高橫向分辨率颤难、高靈敏度；可以對(duì)樣品表面光學(xué)成像的每個(gè)像元進(jìn)行橢偏測(cè)量已维，得到微區(qū)特性的精確定位測(cè)量行嗤，一定程度上提高了對(duì)微納區(qū)域的表征能力，橫向分辨率達(dá)到微米級(jí)垛耳；還可以對(duì)同一光斑區(qū)域的多元樣品進(jìn)行觀測(cè)栅屏，彌補(bǔ)了傳統(tǒng)測(cè)量技術(shù)的不足。目前堂鲜，具有傳統(tǒng)橢偏測(cè)量技術(shù)和光學(xué)成像系統(tǒng)兩者優(yōu)點(diǎn)的橢偏成像技術(shù)發(fā)展迅猛栈雳，為納米檢測(cè)、生物醫(yī)學(xué)缔莲、半導(dǎo)體工業(yè)甫恩、集成電路等領(lǐng)域的材料性能表征提供了較大便利。
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